英国金融时报（FT）报导，中国大陆已成功借由升级艾司摩尔（ASML）的深紫外光（DUV）微影设备，提高人工智慧（AI）晶片产量，凸显中国大陆晶片制造商正设法克服出口管制。
报导引述知情人士指出，中国大陆生产智慧手机以及AI晶片的晶圆厂，已经强化ASML DUV微影设备的效能。美国以及荷兰的出口管制使ASML无法供应最先进DUV设备到中国大陆，迫使许多中国大陆晶圆厂依赖旧款设备，特别是 Twinscan NXT:1980i系统，制造开发AI系统所需的7奈米晶片。
知悉相关技术的知情人士表示，中国大陆晶圆厂已从二手市场获得关键零组件，包括升级版的矽晶圆机械平台模组（Stage），及有助确保晶片层叠能以更高精确度对齐的透镜与感测器。
中国大陆晶圆厂已经运用对ASML DUV设备的改进，取得提高AI晶片产能的能力。目前传出以旧款ASML设备打造7奈米晶片生产线的业者，包括中芯国际（SMIC）以及华为，但还不清楚这两家公司是否已取得更进一步的零组件升级。
在目前的规范机制下，ASML能提供中国大陆客户维护现有设备的工程支援，但被限制提供「对准精度」升级的服务，也被限制从事任何能提高设备「产出」（Throughput）超过1%的改动。
不过，报导引述多位知悉相关安排的知情人士指出，中国大陆晶圆厂从海外采购零组件并运往中国大陆，由第三方公司提供现场工程服务，升级现有的DUV设备。
ASML也被禁止供应极紫外光（EUV）微影设备给中国大陆，使得中国大陆晶圆厂须以「多重图案化」（Multi-patterning）技术生产先进晶片，但是这种方法需要更长的机器运作时间，提高生产成本，也会降低良率。
知情人士表示，中国大陆晶圆厂已透过零组件升级，缓解部分限制，并提高AI与先进智慧手机晶片的产量。
科技研调机构TechInsights本月指出，中芯国际正持续推进「多重图案化」技术的边界到7奈米制程以外，华为最新的麒麟9030处理器便揭露中国大陆迄今最先进的晶片制造制程。TechInsights策略长Dan Kim指出，「中国大陆已持续能在无法和台积电（2330）或三星一般、取得最佳设备的情况下，达成惊人成就」。
中国大陆最新的晶片产线正使用ASML较新型、已配备升级版平台机制的2050i和2100i DUV设备。荷兰政府去年9月撤销这两款设备销往中国大陆的出口许可，但当时已有大量设备完成出货与安装。 $(document).ready(function () {nstockStoryStockInfo();});